3月19日消息，比利时校际微电子研究中心imec当地时间18日宣布，其长期合作伙伴ASML已向其交付了一台高数值孔径(High NA)极紫外光(EUV)光刻系统，这款EXE:5200将在imec总部比利时鲁汶为亚2nm中试线项目NanoIC提供关键支持。

▲图源：imec

imec此前已在ASML总部所在地荷兰费尔德霍芬的ASML-imec联合High NA EUV光刻实验室与ASML一道携手其它业界伙伴共同开拓最先进的半导体图案化技术，而新光刻机的到来将为imec解锁更大的研发自由与量产级能力。

imec预计此次交付的EXE:5200 High NA EUV光刻系统将于2026年第4季度完成全面认证。